某半导创造企业主因晶圆清洁工作程序引起含氨废水除理方法，供水量200吨/天。废水除理方法中除氧化还原电位外还包含氟化物和氢化物发生器巨资属，除理高难度大。当地人排污标准规定要氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理方法含量及原因 晶圆清洁工作废水处理（关键由来）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工步废污水：含少量铜、镍等巨资属，pH值振幅大 CMP抛光工业废水：含硅颗粒剂及高锰酸盐指数 处理制作工艺环节 选用"化学物质积淀+膜隔离+折点氯化"组合起来新工艺： 预清理 ：加药系统CaCl2除氟，调整pH在7.5-8. 超滤膜操作系统 ：去掉0.01μm以内颗粒剂物 反覆盖浓缩造成 ：将化学需氧量沉淀至1000mg/L之上 折点氯化 ：精确度高保持氯加药量，将氧化还原电位还原成为氦气 阴离子传递 ：保驾护航血本属及格 结果是功效 高锰酸盐指数稳定的＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属量不超的检测限 水中水回用率达75% 污泥处理存在量以减少40%