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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

楼盘题材 该半导体技术开发小区处于华东沿海地区沿海地区,总的投资突破200亿人民币,包括加工124英寸晶圆和一流封装形式產品。小区日尾气进行排放物废出水量约5000吨,包涵多类技术废污水解决方法,解决关卡大。項目的标准化废污水解决方法解决后实现《电子元器件行业水被污染的物尾气进行排放物标准化》(GB 39731-2020)有点尾气进行排放物允许值,部份循环率不压低60%。 焦化废水因素及源于 含氟废水处理工艺:最主要的来源晶圆蚀刻、冲洗工艺,氟阴离子密度到达200-500mg/L,pH值震荡大 充分焦化废水:光刻、定影、去胶等道工序存在,COD氧化还原电位300-800mg/L,有异丙醇、二甲苯等充分石油醚 含铜废污水:主轴电镀、物理机械性镜面抛光(CMP)步骤形成,铜亚铁离子浓度值50-150mg/L 强酸强碱工业废水:机 清理、有机废气物洗滌等各个环节呈现,pH值在2-12直接动荡 打磨工业废水:CMP生产工艺诞生,内含nm级二硫化硅颗粒状 治理 加工过程具体流程 选用"归类处置+分质处置+进一步过滤"的组合构成加工过程: 含氟生产废水办理线 : 有级物理放置:先添加氯化钙调试pH至6-7,再加上入PAC和PAM水解酸化池放置 几丁质酶钝化铝吸收:提高认识氟阴阳离子质量浓度减少为5mg/L如下 飞灰经板框压滤后委托人专科救治 有机的焦化废水补救线 : 微钛电极预治理 :铁碳微钛电极光降解大碳原子有机会物 UASB活性污泥现象器:HRT=24h,COD删去率>60% MBR膜动物现象器:选择PVDF中空夹胶玻璃玻璃纤维膜,通量15LMH 含铜废液除理线 : 化工石雕文化悠长岁月中:加药系统NaOH设定pH至9-10,型成Cu(OH)2石雕文化悠长岁月中 铝阴离子对换:有级硅胶粘合剂对换切实保障铜铝阴离子<0.3mg/L 电解设备设备二手回报:部门焦化废水经电解设备设备二手回报废金属铜 综合评估处置系统的 : 可以调节池:均衡教育水环境供水量,设水解酸化均匀搅拌 水泥混凝土沉淀出的:添加挽回水解酸化池剂洗去胶体溶液杂质 什么是臭氧崔化钝化:化学生物降解难化学生物降解无机物 超滤性系统软件:脱盐率>98%,产水回收于产量线 生活污水处置整体 : 淤泥浓缩液池:固状氨水浓度从1%提高了至3% 抽滤脱水情况:添加PAM慢慢调理,泥饼含水量率<75% 高湿干化:区域活性污泥干化至含水量率30%之下 最后效果好 項目建起运动后,多种指数公式安全稳定合格:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜铁离子<0.3mg/L、pH 6-9。回收水饮饮用水达到了GB/T 19923-2005工业品饮用水标准化,回收率65%,历年节省清爽水摄入量约140万吨。污水诞生量减小40%,不安全有害垃圾应对直接费用大大减少35%。整体定时化的情况高,同屏在线监测数值数值与节能职能部门及时互联网。

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