半导体晶圆划片废水怎么处理方法|半导体晶圆划片废水处理案例
工作底色
该的的企业的为欧洲专业的半导体器件首测的的企业的,地属粤港澳大湾区形地域,大部分对其进行品质处置器的小学划片和芯片封装测量。可能场地干净追求苛刻,的的企业的考虑方案废水处置方法零废气工程建设。顶目于22年重启,202两年多6月建造开工,处置规模化为200吨/日,总项目投资约2000万余元。
废污水组成及原因
此项作用片区废水处理含有之下特质:
高氧浓度值氟化物,首要产自晶圆分割后的清晰工艺流程,氟铁离子氧浓度值自由高达150-200mg/L
具有刺激性微米级硅粉小粒,粒度多在100-500nm相互间
有机的功率因数补偿较高,COD在500-800mg/L
含带氢化物发生器高价属如铅、镉等
纯水电导率高,基本上在2000-3000μS/cm
清理方法步骤流程
为完成零排卸对方,工艺流程的设计侧重注意工业废水类别获取和資源收购:
污废水 种类采集整体
:将含氟电镀焦化废水与的电镀焦化废水分开单独进行采集而来
检查是否沉淀物中除氟
:采取二级钙盐乳浊液法,积极配合更高效乳浊液池
最高级氧化物加工处理
:二氧化反应碳崔化氧化反应降解塑料难操作有机质物
膜精提系统化
:采用了DTRO碟管式反融于,精提3的倍数为10倍
蒸发掉晶粒
:MVR机械装备饱和蒸汽再缩减多效空调蒸发器解决浓水
干燥的程序
:将成果盐变干后有所作为工业化的副产设备外售
整理功效
机系统程序运行信息体现:
氟化物的还原率>99.9%,出水量氟亚铁离子<1mg/L
COD总洗去率>98%,满水后COD<20mg/L
中国水资源性回收处理率>95%,仅引起少量出成果盐
常年可出售高效率保证工业废水处理水约七万之吨
结晶体盐纯净度高达工业化级标准,达到材料化用
品牌不控制了污废水 零产生,还采用资源性收回创作了约80万多/年的加倍价值。