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半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法

项目流程底色 此工程项目地处长三边形地某发展中省级半导体芯片家产各园,的企业主要的生产方式8寸大和12寸大晶圆,每日量达到2万片。随产能提高了,和原有的废水补救方法补救设备已无发需求节能环保规范,现需升级成改良。工程项目总投资费用约1200万元,设置补救工作能力为300吨/日,于2022年建设完工投入运营。 污废水 材质及源于 该公司晶圆划区流程引起的废渣主要的涵盖如下成分表: 分割具体步骤中便用的考虑液残余物,主耍材料为二氧化的硅颗粒状、从表面活性酶剂和有机酸获取剂 晶圆表明擦洗发生的含氟焦化废水,氟亚铁离子酸度在80-120mg/L 少量的血本属铁离子如铜、镍等,特征于切割机方法损坏 充分稀释剂残渣,包含异丙醇、二甲苯等 pH值上下波动比较大的,通畅在4-10相互之间 处里技术方案 针对性生活污水性能,设计的概念用于"有机化学预解决+什么是生化解决+深层解决"的组合式工艺设计: 的调节池 :均衡化水源供水量,放置pH免费在线检测站和定时投加药剂软件 沥青混凝土结晶 :污泥脱水PAC和PAM,消除漂浮物和溶液的物质 气浮单元尺寸 :用到溶气气浮加工进一部剔除狗瘟小粒和一部分充分物 生化学办理 :适用MBR膜生物工程想法器,污泥处理密度达到在8000-10000mg/L 淬硬层进行处理 :亲水性炭过滤+反融入新工艺,确定出液符合标准 废水治理 :板框压滤设备甩干,活性污泥水分含量率降低60%低于 操作实际效果 系統安稳运动后,出水量水体质量全提高《网上工業水严重污染的尾气排放标准规范规定》(GB39731-2020)特别的尾气排放标准卫生防护距离规定: COD<30mg/L 氟阴阳离子<5mg/L 悬屏物<10mg/L 高价属某项指標均高于最大限度 产品历年可减小污染破坏物污染物量约COD 32吨、氟化物8.5吨,工业废水处理水率到75%大于,为各个企业避免浪费水电费开支约1二十万元/年。

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