半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
业务视频背景
该商家专业性产生半导体行业用高纯氟化氢和六氟化钨,废液氟有机废气浓度超高且有效成分很复杂。本来的除理工学院艺功效不稳定性高,氟化物直接排放会时常超量。好项目融资2五百万元的建设针对性除理建筑设施,制作除理业务能力500吨/天。
废水处理基本成分及渠道
化工废水具体基生孩子机械洗掉和废水干洗:
氟阴阳离子渗透压:1500-3500mg/L
含硫酸钠根阴离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含进样器钨、钼等重金属重元素
操作生产工艺具体步骤
采取高质量浓度作用,用"与+三级积淀+膜解决"生产技术:
生活污水采集而来整理池:类别采集而来整理与众不同氧浓度生活污水
与表现池:分的时候污泥脱水氢被氧化反应钠和氢被氧化反应钙,操控终结pH至7.5-8.
水解酸化池发生反应池:添加PAC和PAM增强学习奠定目的
斜管积累池:极有效率固液分离出来
多物质过虑器:除掉的细小小粒
反进行渗透软件系统:淬硬层脱盐和除氟
污水萃取脱干机系统:离心式脱干后污水清运专科处治
一直监测站装置:实时交通追踪氟亚铁离子密度和pH值
之后实际效果
净化处理系统的加载数据源:
漏水氟阴阳离子大概浓硫酸浓度:2800mg/L
满水后氟阳离子氧浓度:3.2mg/L(月均)
氟彻底清除率:99.9%左右
水回收利用率:满足65%
设计一键化层次高,控制废渣治理利润消减30%,年收旧氟化钙副的产品约400吨。